第72章 佐藤健一郎的挑衅（2 / 3）

镜、头发梳得一丝不苟的亚洲面孔的中年男子站在讲台上，身后的大屏幕上显示着复杂的数学公式和光刻机结构图。

男子正用英语进行演讲，语速平稳，偶尔配合手势强调重点。

“这是世界计算光刻大会的直播回放。”

周宇轩咬牙切齿地解释道

世界计算光刻大会(wclc)，光刻计算领域的‘世界锦标赛’，是光刻技术领域最具影响力的国际会议，相当于这个行业的“奥运会”。

每年，全球顶尖的光刻专家、数学家、物理学家和工程师都会齐聚一堂，展示最新研究成果，探讨技术前沿。

能在wclc上做主旨演讲的，无一不是领域内的泰斗级人物。

而光刻技术本身，则是芯片制造中最核心、最精密的环节。

简单说，就是用光把电路图案“刻”到硅片上。

图案越精细，芯片性能越强。

目前最先进的euv（极紫外）光刻技术，已经能够实现5纳米甚至更小尺寸的芯片制造，而这背后需要极其复杂的数学建模和计算光学支持。

对于正在全力突破芯片“卡脖子”技术的华国来说，光刻领域的每一个进步都牵动着无数人的心。

华国科研团队每年都会派出顶尖学者参加wclc，学习交流最新成果，同时也展示自己的研究进展。

周宇轩对电子产品特别关注，对这种世界前沿的会议更是不可能落下。

“这个日本人叫佐藤健一郎。”

周宇轩指着屏幕上的演讲者，声音里满是厌恶。

“他是京都大学数学研究所教授，日本学术振兴会特别研究员。还是国际光学工程学会最高荣誉获得者，长期研究光刻数学理论，在国际上有一定的话语权。”

屏幕上，佐藤健一郎的演讲已接近尾声。

他推了推眼镜，切换到最后一张幻灯片，上面展示着一套结构优美、符号繁复的数学框架。

“这就是他这次提出的‘佐藤正则化框架’。”

周宇轩低声说，他显然对这个领域已经做过研究了。

“一套专门针对euv光刻误差修正的数学公式体系。他声称用这个框架，能够完美解决euv光刻中的各种像差和失真问题，让5纳米芯片的良率突破95%。”

良率也就是纳米芯片生产的成功率。

要知道，目前最先进的生产线，5纳米芯片的良率也就在80%左右徘徊。

每提高一个百分点，都意味着数以亿计的成本节约。

95%的良率，如果真能做