第76章 真的没办法了吗（2 / 4）

三人兴奋得睡不着，刷着围脖，期待着第一条评论的出现，想象着明天这份清单会引发怎样的风暴。

黑夜中，不时发出“咯咯咯……”的笑声。

……

深夜，沪城微电子研究所的一间实验室里，灯火通明。

罗华盯着电脑屏幕上密密麻麻的公式，眼皮沉重得像灌了铅，却不敢闭上。

他已经连续工作超过四十八小时了，眼白里布满了红血丝，下巴上也冒出了青色的胡茬，身上那件浅灰色的衬衫皱巴巴的，领口松了两颗扣子。

他的手指悬在键盘上方，微微颤抖着。

屏幕上是他这几个月一直在攻克的euv光刻误差修正模型，一个基于变分法的正则化框架。

从理论上来说，这个框架应该能够有效抑制光学像差和光刻胶的三维形变。

理论上。

罗华深吸一口气，按下了运行键。

程序开始执行，进度条缓慢地向前爬行。

他靠在椅背上，抬手揉了揉太阳穴。

实验室里安静得只剩下服务器风扇的低沉嗡鸣，还有他自己的心跳声。

砰，砰，砰。

每一次心跳，都像是在提醒他：时间不多了。

作为国内光刻计算领域最年轻的博士毕业生，罗华23岁就跟着国内光刻仿真泰斗陈云邦院士学习。

他天赋出众，又肯拼命，短短两年就在几本前沿的期刊上发了论文，被圈内人称为“后起之秀”。

但他自己知道，这远远不够。

尤其是在三天前的wclc上，亲眼看着佐藤健一郎站在台上，用那种轻蔑的语气说出“华国朋友若想造高端芯片，直接购买我们的授权即可”时，罗华感觉自己整个人都要炸了。

他当时就坐在华国代表团的后排，拳头攥得死紧，指甲几乎要嵌进掌心。

他想站起来反驳，想冲上台去质问佐藤你的数据到底有没有问题，你的模型到底经不经得起推敲。

但他不能。

因为佐藤有论文，有成果，有国际学术圈的话语权。

而他们呢？

他们还在追赶，还在摸索，还在为每一个百分点的良率提升而绞尽脑汁。

那种无力感，像是一块巨石压在胸口，沉重得让人喘不过气。

回国后的这两天，罗华几乎没合过眼。

他把自己关在实验室里，疯狂地修改模型，调整参数，试图在佐藤那个框架之外，找到一条新的路。

但进展微乎其微。

光刻数学这个领域，太深了。